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电子制造业难题之一:光刻胶为什么那么难?
发布时间:2021.12.10
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不久之前,光刻胶又上了热搜了,今天艾能微也来探讨一下为什么光刻胶那么难,为什么我们国内的厂商和企业一直难以突破,以下仅仅是发表一下本人的个人看法。

不久之前,光刻胶又上了热搜了,今天艾能微也来探讨一下为什么光刻胶那么难,为什么我们国内的厂商和企业一直难以突破,以下仅仅是发表一下本人的个人看法。

我认为光刻胶国产化存在诸多的壁垒,一种是行业和市场的壁垒,一种是技术壁垒。行业市场壁垒方面,虽然光刻胶是集成电路当中不可或缺的关键环节,但并非是一个非常巨大的市场,不管是用于PCBLCD显示领域的低端光刻胶,还是用于集成电路领域的ArFKrF乃至EUV光刻胶,全球的市场总额容量合计也才90亿美元,在整个的半导体庞大的产业当中,几乎可以忽略不计。越是市场容量小的行业,对于后进入者越是不友好,吸引力就不会那么的大,越是缺乏吸引力,这个行业的集中度就会越发的高,所以整个全球的市场份额集中在了几个行业巨头的手中,也就不足为奇了。在一个狭小的市场领域当中,巨头垄断的格局一旦形成,后进入者想颠覆这种格局难度可想而知,而且就算是掌握了九成光刻胶市场份额的日本企业,比如说日本的JSR、东京日化、信越化学等等,光刻胶也仅仅是他们庞大繁杂的业务线的一个分支而已,单凭光刻胶这一单一产品,还不足以养成国际巨头,想象空间还是有限的。光刻胶

另外一方面,光刻胶是一个最最关键的环节,因此也就导致下游晶圆厂的导入难度非常大,可以想象,有哪个晶圆厂会学雷锋愿意贡献自己的产线和产能来配合国产光刻胶企业进行产品的导入呢?而且一旦产品不稳定导致的问题将会是灾难性的,前几年台积电由于光刻胶污染事件,导致巨额损失的案例想必大家还记忆犹新,上万片的十二寸晶圆报废,直接下调当期的经营预期,而且用的还是国际大厂陶氏化学的光刻胶产品,对于一些成熟度尚未经过普遍验证的新产品,下游晶圆厂没有动力,也不敢贸然采用。

在技术层面上,光刻胶的技术壁垒也不低,很多人可能认为光刻胶不就是感光树脂、光引发剂、溶剂、添加剂等原材料的混合吗?难度似乎也并不那么的高,但是同其他的专用化学品一样,光刻胶也是存在品种多、用量小、品质高等特点,核心壁垒在于原材料的纯度、配方的精密度以及客户的定制化上面。纯度高很好理解,涉及到原材料的纯度和最终产品光刻胶的纯度,纯度高才会较少污染,才会减少干扰,对于最终的产线应用至关重要,在光刻胶的配方方面,并非单一配方打遍天下,各个厂家都有各自的配方,有各自的特点,能否最终运用与下游的产线上,还需要和晶圆厂的长期配合验证,导入非常地复杂和繁琐。

另外一方面,光刻胶是和芯片制造工艺密切结合的,要研发光刻胶首先得有一台光刻机吧,光刻机贵不贵相比大家都应该知道,这笔投入对于一些早期的创业企业就形成了一座不可逾越的大山。去年九月份,晶瑞股份斥资1100万美金购买二手光刻机用于高端的光刻胶的研发,就引发了股价的大幅上涨,而这还是一台二手的光刻机。光刻胶如此重要,最近几年的非正常的状况也给我们敲响了警钟,中美贸易摩擦会不会蔓延到材料领域,国外产能的不足会不会直接影响我们产业的发展,这也影响了我们的产业政策和产业发展格局,正是基于此,我们国内的比如科华,南大,晶瑞,新阳等厂商也都在积极布局高端光刻胶,多家晶圆厂商也逐渐改变思路,扶持国内的企业,加速验证导入国产光刻胶产品。

但是话说回来,正是因为光刻胶行业的特性存在上面所说的各个壁垒,单凭市场的力量很难冲破这些壁垒,要完完全全解决问题,情况还并不是那么乐观,这时候就更需要那只“看得见的手”来推动一把。


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